凈化工程的各行業(yè)無(wú)塵車間裝修要求
       1、半導(dǎo)體、芯片、集成電路生產(chǎn)的無(wú)塵車間要求
       國(guó)家大力支持發(fā)展半導(dǎo)體，半導(dǎo)體材料提純作為發(fā)展半導(dǎo)體器件的重要基礎(chǔ)。由于大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的工藝要求，為得到高純度的硅材料，原料和中間媒介的高純度和生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的一個(gè)突出問(wèn)題。
       芯片從上世紀(jì)50年代發(fā)展至今，大致經(jīng)歷了三大發(fā)展階段:在美國(guó)發(fā)明起源-在日本加速發(fā)展-在韓國(guó)與中國(guó)臺(tái)灣成熟分化。前兩次半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移原因分別是:日本在PCDRAM市場(chǎng)獲得美國(guó)認(rèn)可;韓國(guó)成為PCDRAM新的主要生產(chǎn)者和中國(guó)臺(tái)灣在晶圓代工、芯片封測(cè)領(lǐng)域成為代工龍頭。如今中國(guó)已成為全球半導(dǎo)體最大的市場(chǎng)，在強(qiáng)大的需求和有力的政策推動(dòng)下，芯片行業(yè)正迎來(lái)第三次產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移，向大陸轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)已不可阻擋。集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關(guān)，而芯片的缺陷密度與空氣中粒子個(gè)數(shù)有關(guān)。因此，集成電路的高速發(fā)展，不僅對(duì)空氣中控制粒子的尺寸有極高的要求，而且也需進(jìn)一步控制粒子數(shù)；同時(shí)，對(duì)于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)環(huán)境的化學(xué)污染控制也有相關(guān)的要求。
       2、精密機(jī)械和精細(xì)化工產(chǎn)品生產(chǎn)的要求
       隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，許多工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)加工對(duì)生產(chǎn)環(huán)境中的含塵濃度提出極高的要求，這就需要其生產(chǎn)環(huán)境中具有一定的空氣潔凈等級(jí)和控制生產(chǎn)過(guò)程所需各類相關(guān)物質(zhì)的供應(yīng)質(zhì)量。例如，在膠片生產(chǎn)中，膠片若受到了塵埃的污染，將會(huì)發(fā)生乳劑氧化，活性減弱，pH值變化等，從而影響膠片的感光性能。
       3、醫(yī)藥產(chǎn)品生產(chǎn)的無(wú)塵車間要求

       藥品是用于預(yù)防、治療疾病和恢復(fù)、調(diào)整機(jī)體功能的特殊商品，它的質(zhì)量直接關(guān)系到人的健康和安危。如果一些藥品在制造過(guò)程中受到微生物、塵粒等污染或交叉污染，可能會(huì)產(chǎn)生預(yù)料不到的疾病和危害。

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